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干涉仪系列 当前位置:首页 -> 产品展示 -> 干涉仪系列

   WLI-200干涉仪基于白光干涉原理,采用非接触式的测量方法,用于超高精度的平面和曲面轮廓、面形误差、缺陷形态、波纹度及表面粗糙度的测量,也可分析截面、刻线凹槽深度和台阶高度等,具有高测量精度、操作便捷、功能齐全、测量参数涵盖面广等优点,是目前在3D检测领域精度最高的测量仪器之一。

 

产品参数

技术指标

参数值

扫描装置

长范围,Z轴纳米光栅控制

物    镜

无限远共轭干涉物镜2.5X,5X,10X,20X,50X

(其它可定制)

视    场

与选用物镜及放大倍率相关

运用图像拼接技术可得到更大范围

光    源

白光光源,可控亮度调节

测量阵列

高稳定度工业级相机

样件观察

软件集成窗口实时视频观察

Z    轴

典型200mm行程

纵向扫描

7.4mm(10X镜头)

粗糙度重复性

<0.01nm

横向分辨率

0.4μm~10.2μm,与选用物镜相关

台阶测量

准确度≤0.75%,重复性≤0.1 %  1σ

纵向分辨率

<0.1nm

  

产品特性

  • 1)非接触式测量,避免被测件表面的损伤
    2)三维微观形貌测量
    3)纳米级分辨率
    4)气浮隔振装置
    5)可实现大范围的三维拼接检测

 

被测样品特性 
 各种材质:透明,不透明,镀膜,非镀膜,反射,弱反射
 反射率: 0.5%~100%

 

环境要求

  • 温度: 15~30℃,梯度< 1℃/15 分钟
    湿度: 相对湿度 5%~95%,无凝露
    隔振: 三通道气浮隔振系统
    电源: 220V 稳压电源,三角插孔

 

应用领域

  • WLI-200干涉仪可用来测量三维微观形貌,被广泛应用于电容元器件表面测量、晶圆表面粗糙度测量、金属表面纹理测量、表面划痕深度检测等方面;适用于消费电子、精密加工、光学制造、先进技术研发等领域。

 

软件界面

 

 
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